台积电近期向日本E-beam设备供应商Nuflare添购设备，据业内人士了解，台积电这次向Nuflare添购的设备极可能就是与E-beam制程相关的先进设备。由于台积电2007年9月45纳米制程即将量产，针对下一世代32纳米、乃至于22纳米制程，也展开全力研发部署，因此多重电子束、EUV未来发展也备受外界关注。

NuFlare主要是由东芝机械与东芝合资成立的半导体先进制程设备，主要产品线是光罩微显影及缺陷检测。Nuflare 2006年起跨入45纳米制程E-beam检测设备，推出产品NPI-5000，并在横滨扩充研发及制造基地，2007年首度对外供货，一台售价约20亿日圆，而2007年初更宣布推出EBM-6000将制程延伸至45纳米以下。

不过目前晶圆检测方面，美国KLA-Tencor有很高的市场占有率，日本NuFlare希望藉由其独特的E-beam市场地位，争取到更高市场占有率。而目前E-beam设备供应商仅止于3家，除了NuFlare还包括JEOL、日立(Hitachi)。

台积电研发副总孙元成日前指出，EUV及E-beam都是延伸摩尔定律非常重要的技术，但EUV目前技术上仍有难度、每小时单位产出有待提升；而E-beam优点主要在于不需要光罩，对少量多样的投片，这一点很具成本利基。不论是哪里种解决方案，未来要达到产业界的量产需求都有很长一段努力空间。