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IEDM群英荟萃 台积电32奈米测试芯片独放异彩
http://www.cnele.com  更新时间:2007年12月12日  来源:中国电子行业门户网
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IEDM群英荟萃 台积电32奈米测试芯片异彩纷呈  

据境外媒体报道,11日位在美国华盛顿特区举办的国际电子元件大会(IEDM)中群雄芸集,几大半导体巨头纷纷发表演讲,展现新技术实力。IEDM与ISSCC、VLSI是3个国际级半导体元件年度技术论文的发表大会,每年几乎各知名学术机构、半导体业者皆以其最新、最先进半导体设计与技术参与发表论文,从中也可一窥未来半导体产业先端技术、市场发展端倪。

此次IEDM中,台积电高度参与,宣布其第1颗32奈米制程测试芯片已正式通过内部功能验证,未来将可同时支持单芯片中数码、类比电路。外界预料,以台积电每2年发展1个制程世代的进程估算,32奈米制程芯片已具雏形,最快可在2009年实现量产。

台湾媒体表示,除了台积电高度参与,董事长张忠谋亲身赴会演讲,国际级半导体大厂包括英特尔(Intel)、IBM及三星电子(Samsung Electronics)也不惶多让,也藉由IEDM展现其技术实力。英特尔方面,主要是着重于其45奈米及32奈米制程高温下采用高介电系数材料及金属闸极技术发表、及关于相变化存储器和快闪存储器技术;IBM则着重45奈米与65奈米绝缘层上覆矽(SOI)超低漏电制程;韩国三星则发表关于40奈米存储器制程与先进半导体材料技术。
  
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